我国新型光刻设备问世,攻破多项被国外“卡脖子”技术

最近有关美国打压华为的新闻甚嚣尘上,归其原因还不是中国没有掌握芯片制造领域的尖端技术,无法独立完成芯片的制造。抽丝剥茧来看,想要制造芯片,就必须得掌握光刻机技术,不得不承认在这方面中国存在很大短板,不过好消息传来,中国在光刻机领域取得了重大研究进展。

重磅!我国新型光刻设备问世,攻破多项被国外“卡脖子”技术

 

根据俄塔社7月7日报道,中国光刻机工艺制造龙头企业—上海微电子技术公司已成功完成了22nm光刻机的研制工作。实事求是来说,技术层面依旧与国际顶尖大厂荷兰ASML存在一定差距,但仅看近几年国内光刻机研究进程绝对是重大突破。我们能看到的是,近些年在国家政策、资本的帮助下,我国的半导体行业发展迅速了,与国外的差距逐渐缩短,国产替代进程全力加速发展。

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目前,荷兰可谓是正站在高端光刻机技术的金字塔尖,说是行业霸主都不为过,无奈荷兰怕中国超越他们,一直对中国实行技术封锁,中国只能自主研发坚持不懈探索,最终成功的突破了光束衍射极限的限制,研发出了9纳米的线宽,当然与西方的光刻技术仍旧不能相提并路,但是中国自主研发已经非常了不起。

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按照目前情况是,中国完全自主知识产权的28纳米级光刻机有望在2021年正式使用,有了光刻机中科院研发的2nm芯片预计会在2024年投入生产,总归来说如果不能自主研发芯片,就会受制于人,只要掌握核心技术,才能实现真正的“中国制造”。

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光刻机属于精密仪器中的王者级别,我国首款光刻机的制造已经提上日程,光是一个部件就得6000万元,一整台机器至少也得数十亿或者上百亿,如此高的造价也正是光刻机无上价值的显现,如果中国能够自主制造出高精尖的光刻机,打破半导体方面的垄断,到时候华为再也不用看国外企业脸色,时刻担心被卡脖子了。